[starter48 7]

5 часов назад, emiq сказал:

Алгоритм наложения маски оптимальный и достаточный. Ничего с ним дополнительно делать не надо. Никакого специального переключения. Оставить, как есть.

Поздняк метаться! Я уже доделал и выложил версию 3.3.0.1 с отключением отображения маски площадок, если включено отображение отверстий.

5 часов назад, emiq сказал:

Делать ли подобное для Pattern Editor, вопрос открытый. Я рисую паттерны в редакторе PCB, не используя Pattern Editor. Но, возможно, для завершенности продукта следует сделать.

Я не нашёл у него глобальной настройки отступа паяльной маски. Думаю, нет смысла делать только ради Complex Pads.

Думаю, в Relay надо доделать.

5 часов назад, emiq сказал:

Вопрос наложения пасты по аналогии с маской  - ????? Может быть и не надо.

С пастой всё на много сложнее: похоже, надо сначала приделать саму возможность отображения пасты (а не площадок пасты), т.е. с учётом Paste Shrink. А потом уже прикрутить её отображение на этапах Current Layer Pad/Via Shapes, аналогично паяльной маске.

Пока эту задумку отложу в долгий ящик...

[emiq 12]

ok!!!! Сейчас посмотрю! Так тоже удобно. Можно выбрать, кому - как нравится. Оставьте оба варианта - пока. Возможно, у людей будет разный выбор. Кто, у чему привык и сможет это обосновать. Можно в наборе при выборе патча сделать переключение вариантов для этого случая - маска постоянная ( вар1), маска переключаемая (вар2). Или совсем без наложения маски, если не применять данный патч. Это тоже дело вкуса и удобства, как с точностью сетки. Думаю, такой вариант возможен, выбор, каким кодом патчить. Чтобы не держать под рукой разные версии патча на этот случай.

После таких доработок интерфейса , глядишь, многие с Orcad386+, переберутся на PCAD2006SP2, т.к. у него будет больше преимуществ при подобной же простоте работы и лучшем контроле и  ручном трассировщике. И с драйвером полного экрана нет проблем, и с X64 системами тоже. Я сравниваю программы одного примерно уровня.

 

Стоит обратить внимание на раздачу трекера https://rutracker.org/forum/viewtopic.php?t=872088 Altium DXP2004 c сервиспаками до SP4. У меня пока только в нем красиво получается аннотация многоканальной иерархии проекта, конвертированной из Orcad 16.6 ( через понижение до 16.2 и далее до 7 версии в SPB_16.2.), которую он может конвертировать чисто в Altium 5 версии.

 

 

 

 

Изменено 13 октября, 2020 пользователем emiq

[starter48 7]

Выложил версию 3.3.0.3:

• Патч p) Продвинутая отрисовка конт.  площадок теперь накладывается не только на PCB, но и на Relay, и на PatEd.
• Добавлен выбор режима этого патча: использовать ли Display Pad Holes в качестве выключателя.

Если в PatEd эта функция не нужна, то можно в списке файлов патча убрать пометку с PatEd.exe и PatEdRsc.dll

[emiq 12]

Можно выложить ссылку на  данный патч на Rutracker в теме PCAD2006. Основные функции продукта сделаны, что увеличит количество тестирующих программу. На это должно быть твое решение. Без него я этого делать не буду. 

Изменено 15 октября, 2020 пользователем emiq

[emiq 12]

При проверке Pattern Editor наткнулся на невозможность в нем назначать отступы маски,при создании графики ..... Ничего не происходит и не сохраняется.

Введенное в поле значение (2) просто исчезнет без последствий. Не важно, будет еще указание mil или нет. Это режим конфигурации в Pattern Editor. Это на оригинальной версии PCAD2006SP2.

 

Я не нашел в *.INI файле упоминаний об этих параметрах. Зазор маски при запуске редактора выставляется по умолчанию 7.5 милс. Что-то редактировать в редакторе на слое маски можно только через Complex Stack , путем добавления явного указания размера маски на конкретном слое редактируемого элемента. Т.е. все эти три графы - программная заглушка под развитие программы.

Изменено 15 октября, 2020 пользователем emiq

[Zig 39]

А можно добавить в PCAD2006SP2 патч позволяющий увидеть контур переходного отверстия подключенного к слою Plane?

Сейчас подключенные к слою Plane переходные отверстия (соединение Direct Connect) не видны, что не удобно когда в Plane трассируется несколько сигналов.

[starter48 7]

1 час назад, emiq сказал:

При проверке Pattern Editor наткнулся на невозможность в нем назначать отступы маски,при создании графики ..... Ничего не происходит и не сохраняется.

Введенное в поле значение (2) просто исчезнет без последствий. Не важно, будет еще указание mil или нет. Это режим конфигурации в Pattern Editor. Это на оригинальной версии PCAD2006SP2.

Я не нашел в *.INI файле упоминаний об этих параметрах. Зазор маски при запуске редактора выставляется по умолчанию 7.5 милс. Что-то редактировать в редакторе на слое маски можно только через Complex Stack , путем добавления явного указания размера маски на конкретном слое редактируемого элемента. Т.е. все эти три графы - программная заглушка под развитие программы.

 

Я же предупреждал, что с PatEd так будет!

Глобальный отступ маски сохраняется в файлах .pcb

Т.о. в PatEd нет смысла делать настройку отступа маски.

Можно сделать чтобы значение отступа в настройках работало, но сохраняться не будет - пригодно, только чтобы посмотреть.

1 час назад, Zig сказал:

А можно добавить в PCAD2006SP2 патч позволяющий увидеть контур переходного отверстия подключенного к слою Plane?

Сейчас подключенные к слою Plane переходные отверстия (соединение Direct Connect) не видны, что не удобно когда в Plane трассируется несколько сигналов.

Они видны, если текущий слой - не Plane.

В этом есть логика: при переключении на внутренний слой вместо переходного отверстия показывается отступ (вырез в Plane), по аналогии со слоями маски.

Надо подумать это доработать и не навредить...

[emiq 12]

Алгоритм работы с маской в Pattern Editor такой- В PCB.ini находятся глобальные значения отступа маски и они читаются ( в том числе и дефолтные, если ничего не задавали) и заносятся в соответствующие поля Pattern Editor при его загрузке, рядом с полем отображается буква (G) - Global. Само поле переменной окрашено в серый или др. цвет. В соответствие с этими настройками происходит отображение отступа маски в Pattern Editor с появлением буквы типа переменной рядом с полем ввода. Если теперь в поле Pattern Editor ввести другое значение, то оно становится типа - LOCAL (L) и это значение заносится на соответствующий слой элемента , например - меняем отступ маски - заносим на слой маски с его созданием в сложном падстеке, т.к. это автоматическое создание отступа, то для сквозного отверстия создаются все необходимые слои с таким отступом - TOP MASK и BOTTOM MASK, для SMD площадки - только на сопряженным с ней текущим слоем маски. Более тонкая настройка падстека уже тогда руками. Это тоже автоматическая работа, но более сложная. В результате не будет конфликта между PCB и Pattern Editor по отступу маски у элемента. Однако, должна быть галочка очистки полей в Pattern Editor, чтобы корректно обновлялись глобальные и локальны е переменные. ПРи этом возможно сохранять локальные значения из Pattern Editor в его INI файл для повторного использования, чтобы каждый раз не переназначать при запуске редактора или смене типа элемента редактирования. Это правильно и удобно. Фактически добавляется минимальная автоматизация при создании сложного падстека. Возможно, подобное не получится,т.к. отсутствует большая часть необходимого для подобной процедуры кода в программе.

Изменено 15 октября, 2020 пользователем emiq

[Zig 39]

11 минут назад, starter48 сказал:

Они видны, если текущий слой - не Plane.

Уточню. Не просто не Plane, а Signal. С Non Signal такое не проходит.

13 минут назад, starter48 сказал:

В этом есть логика: при переключении на внутренний слой вместо переходного отверстия показывается отступ (вырез в Plane), по аналогии со слоями маски.

Надо подумать это доработать и не навредить...

Хорошо. Может тогда показать переходное отверстие вырезом в Plane по диаметру отверстия? С возможностью управления видимостью при помощи галки в Display Pad Holes?

[starter48 7]

1 час назад, emiq сказал:

Алгоритм работы с маской в Pattern Editor такой- В PCB.ini находятся глобальные значения отступа маски и они читаются ( в том числе и дефолтные, если ничего не задавали) и заносятся в соответствующие поля Pattern Editor при его загрузке, рядом с полем отображается буква (G) - Global. Само поле переменной окрашено в серый или др. цвет. В соответствие с этими настройками происходит отображение отступа маски в Pattern Editor с появлением буквы типа переменной рядом с полем ввода. Если теперь в поле Pattern Editor ввести другое значение, то оно становится типа - LOCAL (L) и это значение заносится на соответствующий слой элемента , например - меняем отступ маски - заносим на слой маски с его созданием в сложном падстеке, т.к. это автоматическое создание отступа, то для сквозного отверстия создаются все необходимые слои с таким отступом - TOP MASK и BOTTOM MASK, для SMD площадки - только на сопряженным с ней текущим слоем маски. Более тонкая настройка падстека уже тогда руками. Это тоже автоматическая работа, но более сложная. В результате не будет конфликта между PCB и Pattern Editor по отступу маски у элемента. Однако, должна быть галочка очистки полей в Pattern Editor, чтобы корректно обновлялись глобальные и локальны е переменные. ПРи этом возможно сохранять локальные значения из Pattern Editor в его INI файл для повторного использования, чтобы каждый раз не переназначать при запуске редактора или смене типа элемента редактирования. Это правильно и удобно. Фактически добавляется минимальная автоматизация при создании сложного падстека. Возможно, подобное не получится,т.к. отсутствует большая часть необходимого для подобной процедуры кода в программе.

Я такое знаю только для Plane Swell. Ткни меня носом, где такое же для маски. И как сохранять локальные значения в Pated.ini ?

Я-то говорил про поле Solder Mask Swell - оно не будет работать полноценно в PatEd именно из-за отсутствия кода.

4 часа назад, emiq сказал:

Можно выложить ссылку на  данный патч на Rutracker в теме PCAD2006. Основные функции продукта сделаны, что увеличит количество тестирующих программу. На это должно быть твое решение. Без него я этого делать не буду. 

Можно выложить. Но, боюсь, хотелками меня завалят...  Я и так не справляюсь.

[emiq 12]

Да, посмотрел, в PCB.INI не сохраняются значения для отступа маски. Они сохраняются только в файле проекта PCB и во время работы с ним должны быть в ячейке памяти!. Дефолтные 7.5 милс где то зашиты в файл и вызываются по умолчанию всегда, что для PCB что для Pattern Editor. В PCB это значение всегда будет в графе  Options> Configuration> Manufacture> Solder Mask Swell . Для Pattern Editor я уже привел рисунок графы. Там всегда пусто. Поэтому если PCB не запущен и ячейка не переинициализирована новым значением, то в графы выводятся значения по умолчанию - 7.5 мил. , остальные так же. Если же мы уже работаем с проектом PCB, и из него запускаем Pattern Editor, то новое значение отступа маски присвоено и его можно прочитать, и в случае запуска Pattern Editor подменить с дефолтного на считанное, лучше задать перед этим вопрос или сделать в PAttern Editor галочку, что грузить по умолчанию. Сделанные в Pattern Editor настройки присвоить текстовым переменным и записывать значения в его INI файл, или в доп. расширение  INI, для совместимости ПО, чтобы не обрабатывать ошибку неверного формата INI файла для не патченного ПО. Надеюсь, я более - менее понятно написал.

В результате появится возможность реализовать работу по авто созданию сложного стека маски и его отображения, как я написал ранее. Это явно фирмачи не доделали, а потом забыли и перешли на новую версию. Или не додумали алгоритм реализации из-за недостатка времени выхода с продуктом на рынок, посчитав данные улучшения не существенными на данном этапе с точки зрения бизнеса.   По поводу хотелок - они всегда будут. Надо верно выбрать направление улучшений и момент, когда остановиться.!!!! Я считаю, важно все, что позволяет визуально на этапе работы уменьшить количество ошибок за счет расширенного визуального контроля. Это действительно ускоряет разработку при уменьшении ошибок.

Изменено 15 октября, 2020 пользователем emiq

[starter48 7]

9 минут назад, emiq сказал:

 Для Pattern Editor я уже привел рисунок графы. Там всегда пусто. Поэтому если PCB не запущен и ячейка не переинициализирована новым значением, то в графы выводятся значения по умолчанию - 7.5 мил. , остальные так же. Если же мы уже работаем с проектом PCB, и из него запускаем Pattern Editor, то новое значение отступа маски присвоено и его можно прочитать, и в случае запуска Pattern Editor подменить с дефолтного на считанное

Разве PatEd, запущенный из PCB, как-то с ним общается?

Я думаю PatEd и SymEd только с CMP общаются.

[emiq 12]

13 minutes ago, starter48 said:

Разве PatEd, запущенный из PCB, как-то с ним общается?

Я думаю PatEd и SymEd только с CMP общаются.

Этого я не знаю. Надо в отладчике смотреть области памяти данных. Ячейка с нужными данными передается или через стек или через ячейку памяти в области данных, регистры процессора, или переменную созданного ini  файла. Я паттерны создаю на доске PCB. Беру подходящий и даю команду Explode. Все , паттерн разобран. Теперь из его кирпичиков собираем новый , выделяем его весь и сохраняем в библиотеку с одновременным созданием компонента. Т.е. компонент и паттерн имеют одинаковое наименование. Иногда нужно согласовать выводы компонента и паттерна. Но это редко. Эти элементы я и использую для разводки по нетлисту из Оркад. Все прекрасно работает.

Изменено 15 октября, 2020 пользователем emiq

[emiq 12]

есть предложение для уменьшения работы перешить дефолтный отступ маски на значение с 7.5  на  2 милс. Этого обычно хватает для современных QFP, наиболее употребимое значение на производстве, и это значение сейчас используется наиболее часто. Увеличить всегда можно, как и уменьшить. Тогда с таким зазором в Pattern Editor маска будет выглядеть почти всегда корректно, слегка выступая из-за площадок. В реальности  же будет использоваться  либо глобальный отступ, заданный в проекте PCB, или локальный из сложного падстека, который имеет приоритет над глобальным. И это все с  маской.!!! На этом стоит остановиться. Фактически в патче надо указать , какой зазор по умолчанию использовать. Хочется несколько  значений, например 7,5   5    2   1 милс.  Больше значений  не нужно. У меня давно в проектах отступ 2 милса. Это сложные  проекты на 1500 SMD компонентов с корпусами 0402. Нет смысла усложнять там, где есть более простое решение. Разработчик выберет по умолчанию наиболее употребляемое в его проектах. Ведь патч, и есть более тонкая удобная настройка интерфейса. Если разработчику понадобится какая нибудь экзотика - милости просим в сложный падстек.

Подход к выбору ,как со значностью сетки.

Изменено 15 октября, 2020 пользователем emiq

[starter48 7]

Выложил версию 3.3.1.1:

• Доработан патч 6) Манифесты: добавлена опция "Убрать устаревшие файлы" - для удаления библиотек, конфликтующих с современной виндой: Wininet.dll (и, на всякий случай, эти: msvcrt.dll MSVCRT40.dll Urlmon.dll)
• Доработан патч w) Совместимость с UAC: si.cfg будет браться из %ALLUSERSPROFILE%\PCAD\

Изменено 18 октября, 2020 пользователем starter48
mmedit.exe тоже патчится