starter48 7 13 октября, 2020 Опубликовано 13 октября, 2020 · Жалоба 5 часов назад, emiq сказал: Алгоритм наложения маски оптимальный и достаточный. Ничего с ним дополнительно делать не надо. Никакого специального переключения. Оставить, как есть. Поздняк метаться! Я уже доделал и выложил версию 3.3.0.1 с отключением отображения маски площадок, если включено отображение отверстий. 5 часов назад, emiq сказал: Делать ли подобное для Pattern Editor, вопрос открытый. Я рисую паттерны в редакторе PCB, не используя Pattern Editor. Но, возможно, для завершенности продукта следует сделать. Я не нашёл у него глобальной настройки отступа паяльной маски. Думаю, нет смысла делать только ради Complex Pads. Думаю, в Relay надо доделать. 5 часов назад, emiq сказал: Вопрос наложения пасты по аналогии с маской - ????? Может быть и не надо. С пастой всё на много сложнее: похоже, надо сначала приделать саму возможность отображения пасты (а не площадок пасты), т.е. с учётом Paste Shrink. А потом уже прикрутить её отображение на этапах Current Layer Pad/Via Shapes, аналогично паяльной маске. Пока эту задумку отложу в долгий ящик... Цитата Поделиться сообщением Ссылка на сообщение Поделиться на другие сайты Поделиться
emiq 10 13 октября, 2020 Опубликовано 13 октября, 2020 (изменено) · Жалоба ok!!!! Сейчас посмотрю! Так тоже удобно. Можно выбрать, кому - как нравится. Оставьте оба варианта - пока. Возможно, у людей будет разный выбор. Кто, у чему привык и сможет это обосновать. Можно в наборе при выборе патча сделать переключение вариантов для этого случая - маска постоянная ( вар1), маска переключаемая (вар2). Или совсем без наложения маски, если не применять данный патч. Это тоже дело вкуса и удобства, как с точностью сетки. Думаю, такой вариант возможен, выбор, каким кодом патчить. Чтобы не держать под рукой разные версии патча на этот случай. После таких доработок интерфейса , глядишь, многие с Orcad386+, переберутся на PCAD2006SP2, т.к. у него будет больше преимуществ при подобной же простоте работы и лучшем контроле и ручном трассировщике. И с драйвером полного экрана нет проблем, и с X64 системами тоже. Я сравниваю программы одного примерно уровня. Стоит обратить внимание на раздачу трекера https://rutracker.org/forum/viewtopic.php?t=872088 Altium DXP2004 c сервиспаками до SP4. У меня пока только в нем красиво получается аннотация многоканальной иерархии проекта, конвертированной из Orcad 16.6 ( через понижение до 16.2 и далее до 7 версии в SPB_16.2.), которую он может конвертировать чисто в Altium 5 версии. Изменено 13 октября, 2020 пользователем emiq Цитата Поделиться сообщением Ссылка на сообщение Поделиться на другие сайты Поделиться
starter48 7 15 октября, 2020 Опубликовано 15 октября, 2020 · Жалоба Выложил версию 3.3.0.3: Патч p) Продвинутая отрисовка конт. площадок теперь накладывается не только на PCB, но и на Relay, и на PatEd. Добавлен выбор режима этого патча: использовать ли Display Pad Holes в качестве выключателя. Если в PatEd эта функция не нужна, то можно в списке файлов патча убрать пометку с PatEd.exe и PatEdRsc.dll Цитата Поделиться сообщением Ссылка на сообщение Поделиться на другие сайты Поделиться
emiq 10 15 октября, 2020 Опубликовано 15 октября, 2020 (изменено) · Жалоба Можно выложить ссылку на данный патч на Rutracker в теме PCAD2006. Основные функции продукта сделаны, что увеличит количество тестирующих программу. На это должно быть твое решение. Без него я этого делать не буду. Изменено 15 октября, 2020 пользователем emiq Цитата Поделиться сообщением Ссылка на сообщение Поделиться на другие сайты Поделиться
emiq 10 15 октября, 2020 Опубликовано 15 октября, 2020 (изменено) · Жалоба При проверке Pattern Editor наткнулся на невозможность в нем назначать отступы маски,при создании графики ..... Ничего не происходит и не сохраняется. Введенное в поле значение (2) просто исчезнет без последствий. Не важно, будет еще указание mil или нет. Это режим конфигурации в Pattern Editor. Это на оригинальной версии PCAD2006SP2. Я не нашел в *.INI файле упоминаний об этих параметрах. Зазор маски при запуске редактора выставляется по умолчанию 7.5 милс. Что-то редактировать в редакторе на слое маски можно только через Complex Stack , путем добавления явного указания размера маски на конкретном слое редактируемого элемента. Т.е. все эти три графы - программная заглушка под развитие программы. Изменено 15 октября, 2020 пользователем emiq Цитата Поделиться сообщением Ссылка на сообщение Поделиться на другие сайты Поделиться
Zig 33 15 октября, 2020 Опубликовано 15 октября, 2020 · Жалоба А можно добавить в PCAD2006SP2 патч позволяющий увидеть контур переходного отверстия подключенного к слою Plane? Сейчас подключенные к слою Plane переходные отверстия (соединение Direct Connect) не видны, что не удобно когда в Plane трассируется несколько сигналов. Цитата Поделиться сообщением Ссылка на сообщение Поделиться на другие сайты Поделиться
starter48 7 15 октября, 2020 Опубликовано 15 октября, 2020 · Жалоба 1 час назад, emiq сказал: При проверке Pattern Editor наткнулся на невозможность в нем назначать отступы маски,при создании графики ..... Ничего не происходит и не сохраняется. Введенное в поле значение (2) просто исчезнет без последствий. Не важно, будет еще указание mil или нет. Это режим конфигурации в Pattern Editor. Это на оригинальной версии PCAD2006SP2. Я не нашел в *.INI файле упоминаний об этих параметрах. Зазор маски при запуске редактора выставляется по умолчанию 7.5 милс. Что-то редактировать в редакторе на слое маски можно только через Complex Stack , путем добавления явного указания размера маски на конкретном слое редактируемого элемента. Т.е. все эти три графы - программная заглушка под развитие программы. Я же предупреждал, что с PatEd так будет! Глобальный отступ маски сохраняется в файлах .pcb Т.о. в PatEd нет смысла делать настройку отступа маски. Можно сделать чтобы значение отступа в настройках работало, но сохраняться не будет - пригодно, только чтобы посмотреть. 1 час назад, Zig сказал: А можно добавить в PCAD2006SP2 патч позволяющий увидеть контур переходного отверстия подключенного к слою Plane? Сейчас подключенные к слою Plane переходные отверстия (соединение Direct Connect) не видны, что не удобно когда в Plane трассируется несколько сигналов. Они видны, если текущий слой - не Plane. В этом есть логика: при переключении на внутренний слой вместо переходного отверстия показывается отступ (вырез в Plane), по аналогии со слоями маски. Надо подумать это доработать и не навредить... Цитата Поделиться сообщением Ссылка на сообщение Поделиться на другие сайты Поделиться
emiq 10 15 октября, 2020 Опубликовано 15 октября, 2020 (изменено) · Жалоба Алгоритм работы с маской в Pattern Editor такой- В PCB.ini находятся глобальные значения отступа маски и они читаются ( в том числе и дефолтные, если ничего не задавали) и заносятся в соответствующие поля Pattern Editor при его загрузке, рядом с полем отображается буква (G) - Global. Само поле переменной окрашено в серый или др. цвет. В соответствие с этими настройками происходит отображение отступа маски в Pattern Editor с появлением буквы типа переменной рядом с полем ввода. Если теперь в поле Pattern Editor ввести другое значение, то оно становится типа - LOCAL (L) и это значение заносится на соответствующий слой элемента , например - меняем отступ маски - заносим на слой маски с его созданием в сложном падстеке, т.к. это автоматическое создание отступа, то для сквозного отверстия создаются все необходимые слои с таким отступом - TOP MASK и BOTTOM MASK, для SMD площадки - только на сопряженным с ней текущим слоем маски. Более тонкая настройка падстека уже тогда руками. Это тоже автоматическая работа, но более сложная. В результате не будет конфликта между PCB и Pattern Editor по отступу маски у элемента. Однако, должна быть галочка очистки полей в Pattern Editor, чтобы корректно обновлялись глобальные и локальны е переменные. ПРи этом возможно сохранять локальные значения из Pattern Editor в его INI файл для повторного использования, чтобы каждый раз не переназначать при запуске редактора или смене типа элемента редактирования. Это правильно и удобно. Фактически добавляется минимальная автоматизация при создании сложного падстека. Возможно, подобное не получится,т.к. отсутствует большая часть необходимого для подобной процедуры кода в программе. Изменено 15 октября, 2020 пользователем emiq Цитата Поделиться сообщением Ссылка на сообщение Поделиться на другие сайты Поделиться
Zig 33 15 октября, 2020 Опубликовано 15 октября, 2020 · Жалоба 11 минут назад, starter48 сказал: Они видны, если текущий слой - не Plane. Уточню. Не просто не Plane, а Signal. С Non Signal такое не проходит. 13 минут назад, starter48 сказал: В этом есть логика: при переключении на внутренний слой вместо переходного отверстия показывается отступ (вырез в Plane), по аналогии со слоями маски. Надо подумать это доработать и не навредить... Хорошо. Может тогда показать переходное отверстие вырезом в Plane по диаметру отверстия? С возможностью управления видимостью при помощи галки в Display Pad Holes? Цитата Поделиться сообщением Ссылка на сообщение Поделиться на другие сайты Поделиться
starter48 7 15 октября, 2020 Опубликовано 15 октября, 2020 · Жалоба 1 час назад, emiq сказал: Алгоритм работы с маской в Pattern Editor такой- В PCB.ini находятся глобальные значения отступа маски и они читаются ( в том числе и дефолтные, если ничего не задавали) и заносятся в соответствующие поля Pattern Editor при его загрузке, рядом с полем отображается буква (G) - Global. Само поле переменной окрашено в серый или др. цвет. В соответствие с этими настройками происходит отображение отступа маски в Pattern Editor с появлением буквы типа переменной рядом с полем ввода. Если теперь в поле Pattern Editor ввести другое значение, то оно становится типа - LOCAL (L) и это значение заносится на соответствующий слой элемента , например - меняем отступ маски - заносим на слой маски с его созданием в сложном падстеке, т.к. это автоматическое создание отступа, то для сквозного отверстия создаются все необходимые слои с таким отступом - TOP MASK и BOTTOM MASK, для SMD площадки - только на сопряженным с ней текущим слоем маски. Более тонкая настройка падстека уже тогда руками. Это тоже автоматическая работа, но более сложная. В результате не будет конфликта между PCB и Pattern Editor по отступу маски у элемента. Однако, должна быть галочка очистки полей в Pattern Editor, чтобы корректно обновлялись глобальные и локальны е переменные. ПРи этом возможно сохранять локальные значения из Pattern Editor в его INI файл для повторного использования, чтобы каждый раз не переназначать при запуске редактора или смене типа элемента редактирования. Это правильно и удобно. Фактически добавляется минимальная автоматизация при создании сложного падстека. Возможно, подобное не получится,т.к. отсутствует большая часть необходимого для подобной процедуры кода в программе. Я такое знаю только для Plane Swell. Ткни меня носом, где такое же для маски. И как сохранять локальные значения в Pated.ini ? Я-то говорил про поле Solder Mask Swell - оно не будет работать полноценно в PatEd именно из-за отсутствия кода. 4 часа назад, emiq сказал: Можно выложить ссылку на данный патч на Rutracker в теме PCAD2006. Основные функции продукта сделаны, что увеличит количество тестирующих программу. На это должно быть твое решение. Без него я этого делать не буду. Можно выложить. Но, боюсь, хотелками меня завалят... Я и так не справляюсь. Цитата Поделиться сообщением Ссылка на сообщение Поделиться на другие сайты Поделиться
emiq 10 15 октября, 2020 Опубликовано 15 октября, 2020 (изменено) · Жалоба Да, посмотрел, в PCB.INI не сохраняются значения для отступа маски. Они сохраняются только в файле проекта PCB и во время работы с ним должны быть в ячейке памяти!. Дефолтные 7.5 милс где то зашиты в файл и вызываются по умолчанию всегда, что для PCB что для Pattern Editor. В PCB это значение всегда будет в графе Options> Configuration> Manufacture> Solder Mask Swell . Для Pattern Editor я уже привел рисунок графы. Там всегда пусто. Поэтому если PCB не запущен и ячейка не переинициализирована новым значением, то в графы выводятся значения по умолчанию - 7.5 мил. , остальные так же. Если же мы уже работаем с проектом PCB, и из него запускаем Pattern Editor, то новое значение отступа маски присвоено и его можно прочитать, и в случае запуска Pattern Editor подменить с дефолтного на считанное, лучше задать перед этим вопрос или сделать в PAttern Editor галочку, что грузить по умолчанию. Сделанные в Pattern Editor настройки присвоить текстовым переменным и записывать значения в его INI файл, или в доп. расширение INI, для совместимости ПО, чтобы не обрабатывать ошибку неверного формата INI файла для не патченного ПО. Надеюсь, я более - менее понятно написал. В результате появится возможность реализовать работу по авто созданию сложного стека маски и его отображения, как я написал ранее. Это явно фирмачи не доделали, а потом забыли и перешли на новую версию. Или не додумали алгоритм реализации из-за недостатка времени выхода с продуктом на рынок, посчитав данные улучшения не существенными на данном этапе с точки зрения бизнеса. По поводу хотелок - они всегда будут. Надо верно выбрать направление улучшений и момент, когда остановиться.!!!! Я считаю, важно все, что позволяет визуально на этапе работы уменьшить количество ошибок за счет расширенного визуального контроля. Это действительно ускоряет разработку при уменьшении ошибок. Изменено 15 октября, 2020 пользователем emiq Цитата Поделиться сообщением Ссылка на сообщение Поделиться на другие сайты Поделиться
starter48 7 15 октября, 2020 Опубликовано 15 октября, 2020 · Жалоба 9 минут назад, emiq сказал: Для Pattern Editor я уже привел рисунок графы. Там всегда пусто. Поэтому если PCB не запущен и ячейка не переинициализирована новым значением, то в графы выводятся значения по умолчанию - 7.5 мил. , остальные так же. Если же мы уже работаем с проектом PCB, и из него запускаем Pattern Editor, то новое значение отступа маски присвоено и его можно прочитать, и в случае запуска Pattern Editor подменить с дефолтного на считанное Разве PatEd, запущенный из PCB, как-то с ним общается? Я думаю PatEd и SymEd только с CMP общаются. Цитата Поделиться сообщением Ссылка на сообщение Поделиться на другие сайты Поделиться
emiq 10 15 октября, 2020 Опубликовано 15 октября, 2020 (изменено) · Жалоба 13 minutes ago, starter48 said: Разве PatEd, запущенный из PCB, как-то с ним общается? Я думаю PatEd и SymEd только с CMP общаются. Этого я не знаю. Надо в отладчике смотреть области памяти данных. Ячейка с нужными данными передается или через стек или через ячейку памяти в области данных, регистры процессора, или переменную созданного ini файла. Я паттерны создаю на доске PCB. Беру подходящий и даю команду Explode. Все , паттерн разобран. Теперь из его кирпичиков собираем новый , выделяем его весь и сохраняем в библиотеку с одновременным созданием компонента. Т.е. компонент и паттерн имеют одинаковое наименование. Иногда нужно согласовать выводы компонента и паттерна. Но это редко. Эти элементы я и использую для разводки по нетлисту из Оркад. Все прекрасно работает. Изменено 15 октября, 2020 пользователем emiq Цитата Поделиться сообщением Ссылка на сообщение Поделиться на другие сайты Поделиться
emiq 10 15 октября, 2020 Опубликовано 15 октября, 2020 (изменено) · Жалоба есть предложение для уменьшения работы перешить дефолтный отступ маски на значение с 7.5 на 2 милс. Этого обычно хватает для современных QFP, наиболее употребимое значение на производстве, и это значение сейчас используется наиболее часто. Увеличить всегда можно, как и уменьшить. Тогда с таким зазором в Pattern Editor маска будет выглядеть почти всегда корректно, слегка выступая из-за площадок. В реальности же будет использоваться либо глобальный отступ, заданный в проекте PCB, или локальный из сложного падстека, который имеет приоритет над глобальным. И это все с маской.!!! На этом стоит остановиться. Фактически в патче надо указать , какой зазор по умолчанию использовать. Хочется несколько значений, например 7,5 5 2 1 милс. Больше значений не нужно. У меня давно в проектах отступ 2 милса. Это сложные проекты на 1500 SMD компонентов с корпусами 0402. Нет смысла усложнять там, где есть более простое решение. Разработчик выберет по умолчанию наиболее употребляемое в его проектах. Ведь патч, и есть более тонкая удобная настройка интерфейса. Если разработчику понадобится какая нибудь экзотика - милости просим в сложный падстек. Подход к выбору ,как со значностью сетки. Изменено 15 октября, 2020 пользователем emiq Цитата Поделиться сообщением Ссылка на сообщение Поделиться на другие сайты Поделиться
starter48 7 18 октября, 2020 Опубликовано 18 октября, 2020 (изменено) · Жалоба Выложил версию 3.3.1.1: Доработан патч 6) Манифесты: добавлена опция "Убрать устаревшие файлы" - для удаления библиотек, конфликтующих с современной виндой: Wininet.dll (и, на всякий случай, эти: msvcrt.dll MSVCRT40.dll Urlmon.dll) Доработан патч w) Совместимость с UAC: si.cfg будет браться из %ALLUSERSPROFILE%\PCAD\ Изменено 18 октября, 2020 пользователем starter48 mmedit.exe тоже патчится Цитата Поделиться сообщением Ссылка на сообщение Поделиться на другие сайты Поделиться
