[emiq 12]

9 hours ago, starter48 said:

А знаете ли вы что?..

Ковыряясь в коде, я обнаружил, что PCAD2006 использует каталог, откуда он запущен (не путать с каталогом, где он установлен), чтобы брать из этого каталога:

• шрифты *.chr
• макросы, если в .ini не задан параметр MacroDirectory
• ссылки (shortcuts), если в .ini не задан параметр ShortcutDirectory
• а также создаёт в этом каталоге файл ошибок accel_uc.log

 

Думаю это не очень полезно, т.к. в PCAD отступ маски задаётся глобально, и т.о. нечего там смотреть

Я так понимаю, если текущий слой - маска, то надо поверх отрисовывать контактные площадки, и всё?

Я опять не понял проблемы. Сейчас переключился в дюймы, и задал сетку 0.11111mm (и 4.37441mil пробовал). После переключения в миллиметры убедился, что сетка именно 0.11111mm.

Маска может задаваться на слое маски дополнительно. Также индивидуальная , локальная, маска задается при создании сложного пад-стека - Complex (в слое маски создается дополнительно свое изображение освобождения вокруг площадки, или полигон, также для слоя пасты). Например , в рекомендациях микросхем с припайкой корпуса, маска может задаваться иначе, чем глобальная. то же относится и к трафарету нанесения пасты.  Поверхность нанесения пасты может быть значительно меньше площадки. Посмотрите в Altium, как отрисовывается маска. Вокруг площадки виден контур маски, в виде  цветного пояска слоя маски. Если слой маски не верхний и включен в текущем наборе LayerSet. Это упрощает визуальный контроль проекта.

Сетку проверял так. У меня в проекте корпуса метрические с шагом 0.5 и 1 мм. Они установлены точно в узлах метрической сетки. Если переключиться в mils, то точное значение отображения величины сетки из мм округляется, но вывод ее шага на экран остается првильным.  Если же теперь в mils задать те же значения, что отображены в графе значения величины сетки , то сетка собьется и будет на экране не точной относительно выводов. И наоборот. Если сетка была задана точно в милсах, то ее привязка на экране будет правильной, но при попытке задать те же значения, что выводятся для милсов в метрике приведут к сдвигу сетки на экране относительно выводов элемента, сетка  опять будет не точной. Т.е. округление значений удобно для разделения типов сеток, по значащим цифрам, и только. При этом, если задана точность , например, милсовой сетки два знака после запятой, то в файлы гербера тоже выводятся эти два знака точности, а не один, как по умолчанию. Также апертуры будут уже другие, тоже с двумя знаками точности. Назначенные с одним знаком точности в проекте, где нет патча, придется переназначать. Для вывода герберов это вроде бы ничем не грозит и проект откроется нормально на компьютере без патча сетки. Не замечено также пока дополнительной ошибки формирования герберов из-за этого.

Изменено 28 сентября, 2020 пользователем emiq

[starter48 7]

12 часов назад, emiq сказал:

Маска может задаваться на слое маски дополнительно. Например , в рекомендациях микросхем с припайкой корпуса, маска может задаваться иначе, чем глобальная. то же относится и к трафарету нанесения пасты.  Поверхность нанесения пасты может быть значительно меньше площадки. Посмотрите в Altium, как отрисовывается маска. Вокруг площадки виден контур маски, в виде  цветного пояска слоя маски. Если слой маски не верхний. Это упрощает визуальный контроль проекта.

Имеется в виду маска в сложных (complex) площадках?

Надо просто включить отрисовку маски, как она выглядит при активации слоя маски, даже когда слой маски не активен?

Я пытаюсь понять, как надо сделать в PCAD. Совсем, как в Альтиуме точно не будет.

12 часов назад, emiq сказал:

У меня в проекте корпуса метрические с шагом 0.5 и 1 мм. Они установлены точно в узлах метрической сетки. Если переключиться в mils, то точное значение отображения величины сетки из мм округляется, но вывод ее на экран остается првильным.  Если же теперь в mils задать те же значения, что отображены в графе значения величины сетки , то сетка собьется и будет на экране не точной относительно выводов.

Это синдром недостаточной точности отображения в режиме [милли]дюймов.

Предлагаю накинуть по одной цифре, доведя таким образом точность до максимальной: mils - 4 знака, а inch - 7 знаков после запятой.

12 часов назад, emiq сказал:

И наоборот. Если сетка была задана точно в милсах, то ее привязка на экране будет правильной, но при попытке задать те же значения, что выводятся для милсов в метрике приведут к сдвигу сетки на экране относительно выводов элемента, сетка  опять будет не точной. Т.е. округление значений удобно для разделения типов сеток, по значащим цифрам, и только. При этом, если задана точность , например, милсовой сетки два знака после запятой, то в файлы гербера тоже выводятся эти два знака точности.

А этого я не смог повторить. При переходе из миллиметров, с точностью отображения 5 знаков, у меня сдвига сетки нет.

 

Точность гербера же задаётся в окне его настроек: 4.4 или 5.3, т.о. при использовании миллиметров для гербера точности хватает для реальных плат, даже с учётом округления.

Всё ещё про гербер думаю: а не спутал ты со старым PCAD4.5?

Изменено 28 сентября, 2020 пользователем starter48
Про гербер

[emiq 12]

1 hour ago, starter48 said:

Имеется в виду маска в сложных (complex) площадках?

Надо просто включить отрисовку маски, как она выглядит при активации слоя маски, даже когда слой маски не активен?

Я пытаюсь понять, как надо сделать в PCAD. Совсем, как в Альтиуме точно не будет.

Это синдром недостаточной точности отображения в режиме [милли]дюймов.

Предлагаю накинуть по одной цифре, доведя таким образом точность до максимальной: mils - 4 знака, а inch - 7 знаков после запятой.

А этого я не смог повторить. При переходе из миллиметров, с точностью отображения 5 знаков, у меня сдвига сетки нет.

Точность гербера же задаётся в окне его настроек: 4.4 или 5.3, т.о. при использовании миллиметров для гербера точности хватает для реальных плат, даже с учётом округления.

 

Для проверки сетки возьмите корпус QFP 100 с шагом 0.5 мм. Установите режим мм. Установите сетку 1 мм. Поставьте корпус в эту сетку, чтобы выводы совпадали с узлами сетки. Затем задайте сетку 0.125 мм. Видно , что отрисовка сетки осталась на месте и проходит через центр выводов точно. Теперь переходим в милс, меняем систему координат. Сетка осталась на месте. При двух знаках после запятой сетка будет 4.91mils. Если теперь ввести в графе значений сетки 4.91 и нажать ввод, то будет создана новая сетка и она сдвинется относительно выводов элемента платы. Это и есть округление. Тоже верно и для дюймовых корпусов с точностью до наоборот.

Отображение маски. Берем режим слой Top + Слой Маски . Топ сверху- активный. Тогда маска торчит  вокруг выводов с тем зазором, который настроен для данного падстека и со своим цветом. Сейчас же она вообще в этом случае не отображается. Если только сделать слой маски активным - верхним. Тогда видим только отображение слоя маски сверху, и все. Но и в режиме прозрачности- наложения , нет двойного наложения - маска + площадка. Т.е. вокруг прозрачной площадки не видно наложения цвета маски. Это во всех версиях PCAD2ххх.

Изменено 28 сентября, 2020 пользователем emiq

[starter48 7]

58 минут назад, emiq сказал:

Для проверки сетки возьмите корпус QFP 100 с шагом 0.5 мм. Установите режим мм. Установите сетку 1 мм. Поставьте корпус в эту сетку, чтобы выводы совпадали с узлами сетки. Затем задайте сетку 0.125 мм. Видно , что отрисовка сетки осталась на месте и проходит через центр выводов точно. Теперь переходим в милс, меняем систему координат. Сетка осталась на месте. При двух знаках после запятой сетка будет 4.91mils.

Нет, конечно! Если сетка задана 0.125mm, то при переключении в миллидюймы она станет 4.92126... mil, но отображаться значения будут с меньшей точностью (с округлением), как 4.92mil.

Если ввести после этого (в режиме миллидюймов) значение сетки 4.92mil, то сетка реально станет 4.9201mil = 0.12497mm

Чтобы сетка осталась 0.125mm, надо в режиме миллидюймов ввести значение сетки 4.9213mil.

Режим mm/mil/inch переключать не обязательно. Значение в неактивной системе единиц можно вводить указывая их прямо в поле ввода с любой точностью: 0.1in, или, 2.54mm, или 100mil.

При этом значения будут сконвертированы и округлены до 0.01мкм, вне зависимости от единиц и выбранной точности отображения.

58 минут назад, emiq сказал:

Отображение маски. Берем режим слой Top + Слой Маски ....

Я прекрасно помню как отображается маска в PCAD2006.

Мне надо знать как минимальными усилиями тебя удовлетворить, т.к. допиливать PCAD до возможностей Альтиума я не собираюсь.

Поэтому и задаю вопрос: поможет ли решить эту проблему, если просто включить отрисовку маски, как она выглядит при активации слоя маски, даже когда слой маски не активен?

Изменено 28 сентября, 2020 пользователем starter48
Исправил значение в mil

[emiq 12]

В принципе с маской можно ничего не делать. Максимум вывести незаполненный контур цвета маски вокруг площадки, отключаемый. Контур уменьшит объем данных на экране. Этого уже достаточно для визуальной оценки зазора, если необходимо. Так можно было делать в Оркад. Это было удобно. Это все. Там была еще одна функция , которой нет в PCAD. На заливке медью можно было менять индивидуально для падов и переходов - Zone Flood Fills -т.е. локально убирать термобарьер, включенный для этого типа по умолчанию всей зоны заливки для одного или группы переходов или площадок при ручном редактировании. Это очень гибкая возможность. Но это уже другая идеология. не совместимая с PCAD.

С сеткой понял. Посмотрю. Мне нужно было визуальное разделение близких значений, когда из разных проектов тянешь куски.

Изменено 28 сентября, 2020 пользователем emiq

[ViKo 1]

Надо бы, чтобы маска и паста и площадка отображались тогда, когда они включены в набор слоёв. Не понимаю, почему оно так не сделано. Там еще очерёдность слоёв можно перемещать. Но не помогает.

[emiq 12]

4 minutes ago, ViKo said:

Надо бы, чтобы маска и паста и площадка отображались тогда, когда они включены в набор слоёв. Не понимаю, почему оно так не сделано. Там еще очерёдность слоёв можно перемещать. Но не помогает.

Я полностью согласен. Именно это и предлагал, если возможно.

[starter48 7]

32 минуты назад, emiq сказал:

В принципе с маской можно ничего не делать. Максимум вывести незаполненный контур цвета маски вокруг площадки, отключаемый. Контур уменьшит объем данных на экране.

Неа, отключаемый в настройках PCAD точно не будет. Только патчем. В простейшем варианте предполагаю вызов ф-ии отрисовки маски, т.е. изображение маски будет таким же, но под площадками.

А для уменьшения загромождения изображения, предлагал вариант, когда вместо отрисовки маски при переключении на любой слой,

сделать отрисовку площадок только при переключении в слой маски. Т.о. изображение других слоёв не изменится.

32 минуты назад, emiq сказал:

На заливке медью можно было менять индивидуально для падов и переходов - Zone Flood Fills -т.е. локально убирать термобарьер

Я просто на такие площадки ставлю отдельные маленькие Copper Pour без термобарьера.

32 минуты назад, emiq сказал:

С сеткой понял. Посмотрю. Мне нужно было визуальное разделение близких значений, когда из разных проектов тянешь куски.

Тогда тебе однозначно нужна максимальная точность ввода значений: 0.12345mm/0.1234567in/0.1234mil чтобы во внутренние единицы 0.01мм конвертировалось без погрешности.

16 минут назад, ViKo сказал:

Надо бы, чтобы маска и паста и площадка отображались тогда, когда они включены в набор слоёв. Не понимаю, почему оно так не сделано. Там еще очерёдность слоёв можно перемещать. Но не помогает.

Так, уже и пасту подтянули...

Т.е. решение такое: просто включить отрисовку маски и пасты всегда, даже когда они не активны (но включены), как они выглядят при активации соответствующего слоя маски или пасты?

[emiq 12]

Думаю с пастой не надо, если трудности с наложением и отображением. Маску наложением на выводы вывести, если отключено отображение Pad Holes в свойствах дисплея. Если возможно. Т.е вместо отверстий накладываем не стандартно слой маски. Она ведь связано только с внешними слоями - Top, Bottom. И только. Если внешний слой не входит в Layer Set, то и маска наложением на площадки не нужна, только стандартная. При включенных отверстиях - маска выводится по умолчанию, как и есть сейчас. Это  вполне компенсируемое сочетание. Если получится будет удобно. Для просмотра проекта через переключение свойств отображения отверстий. Их отображение нужно не всегда и им можно пожертвовать на время (но переключение тогда оставить), тем более , если на их местах отображаются символы сверловки наложением. Если это возможно. Переменная для контроля-переключения есть.

Сетку посмотрел. Да, нужно задавать с максимальной точностью в поле ввода в нужных единицах. Спасибо. 

Точности 2 знака в милс. для визуального разделения сеток пока достаточно, если можно правильно задать с нужной точностью, введя дополнительное количество знаков. Нужно еще оставить в окне место для ввода нерегулярной сетки, а это 2-4 номинала значений сетки через пробел.

Изменено 28 сентября, 2020 пользователем emiq

[ViKo 1]

Где маска, там и паста. Кому не надо, уберёт из набора слоёв. 

Я перещёлкиваю наборы, чтобы видеть то или сё. 

[emiq 12]

Обнаружил, что при установленном Altium 6.6 -6.9 ,9.4  при импорте в реестр настроек из раздачи с трекера разводчика Situs открывается еще кроме авторазводчика также импорт в Camtastic герберов проекта PCAD2006, в данный  установленный пакет Altium при установленной соответствующей галочке вывода герберов. Файл реестра ниже. Он у меня для диска D. Пути и имя диска можете подправить перед экспортом файла в реестр вашего ПК. Достаточно пакета версии Altium 6.9.12759 из раздачи, ссылку я приводил ранее. Он работает на WinXP 32-64. Конечно, для импорта и работы с герберами лучше использовать пакет CAM350. Сразу видно все проблемы экспорта герберов перед отправкой на производство. Особенно совмещение слоев и сверловка, а также корректность слоев маски и пасты. Также возможна проверка списка цепей по графике проводников и их количеству. Нужно только расставить в пакете назначение слоев в меню Layers и сделать NetList Extract. Полученное количество цепей из такого нетлиста сравнить с количеством цепей проекта PCAD. При разных значениях количества цепей понять причины и убедиться, что нет ошибок. Это дополнительный контроль Вашего проекта перед производством.

/////Возможное отображение маски (DipTrace 4) в дополнительной опции - синий контур вокруг площадки - минимальный объем данных. Уже  даже так -хорошо и достаточно для визуального контроля.

AltiumPCBProject_D.reg

Изменено 28 сентября, 2020 пользователем emiq

[emiq 12]

Если данный вариант окажется не реализуем простыми средствами, то выход я вижу пока один - при создании базы данных корпусов в дополнительном слое (AsmbDrw) создавать контур в виде контура маски - точно по краю реальной маски . Аналогия - RefDes2. Такие доп. слои отображаются при наложении на площадки - пример - слои Silk и Assembl_DRW. Но для такого подхода надо редактировать всю свою базу данных корпусов элементов.

Изменено 4 октября, 2020 пользователем emiq

[Dr.Alex 0]

Сорри, нет возможности всю тему прочитать,

но раз такая пьянка, никто часом не разобрался со скоростью отрисовки, которая начиная с Win8 стала сильно тормозить?

[_4afc_ 26]

13 hours ago, Dr.Alex said:

но раз такая пьянка, никто часом не разобрался со скоростью отрисовки, которая начиная с Win8 стала сильно тормозить?

У меня в VirtualBox отрисовка в 2 раза быстрее, чем в основной ОС. И там и там Win7.

[emiq 12]

Режим прозрачности - наложения отключен в свойствах дисплея? При его включении начиная с Win Vista сильно тормозит перерисовка экрана.

Изменено 5 октября, 2020 пользователем emiq